在上期推文《DENS 原位样品杆中国用户 2023 科研成果精选》中，我们精选 13 篇国内用户的研究成果，向大家介绍 DENS 原位样品杆助力纳米技术领域研究的创新成果和研究发现。

本期我们精选 11 篇海外用户的科研文献，本文分享其中的6篇，希望为读者呈现 2023 年相关领域的最新前沿进展。我们期待科研工作者在新的一年中继续勇攀科学高峰，不断探索未知，创造更多创新成果。

在期盼着 2024 年到来之际，我们不禁回首过去一年，2023 年的科研探索与成就令人难忘。

为了更好地迈向未来，我们精心整理了 2023 年（截止于 12 月 10 日）使用 DENSsolutions 原位样品杆在纳米技术领域取得的科研成果文献集。这些文献来自全球高校，为我们开辟了更广阔的研究视野，揭示了创新领域的新篇章！

在本期推文中，我们精选 13 篇国内用户的研究成果（排名不分先后），本文分享其中的7篇，向大家介绍其中的关键研究发现，希望为读者呈现 2023 年相关领域的最新前沿进展，同时我们期待着科研工作者们在新的一年中继续探索未知，创新无限。

本文重点介绍 TEM 制样中常用的 FIB 聚焦离子束制备方法，探讨了其难以避免的非晶层生成问题，并提出了通过氩离子精修仪和低能离子枪(LEG to FIB)两种技术来修复非晶层问题的解决方案。

原子层沉积技术（ALD ）提供了⼀个创造表⾯活性催化剂位点的⽅式，能够创造出传统合成⽅法⽆法实现的⾼性能催化剂。该技术已被证明具有成本效益，并可以显著提升催化剂的性能。

VSParticle 公司提出了一种基于等离子体火花放电的气溶胶技术，可以生产出具有出色的表面积与体积比、高纯度和可调节厚度的高质量纳米多孔传感涂层。

粉末技术经过多年的发展，已经形成多样化的制备及加工技术。其中，表面包覆技术作为提升粉末物理化学性能的重要手段，长期以来一直缺乏有效的精密手段。与传统的表面改性不同，PALD 是真正可以实现原子级/分子层级控制精度的粉末涂层技术，并保持良好的共形性。