TNO、Perovion Technologies 与 Lift PV 近日签署联合开发协议，三方将紧密合作，共同推进柔性钙钛矿太阳能电池板的研发与量产。在专项资金的加持下，三方携手 Kalpana Technologies、SparkNano 和 Taylor 等合作伙伴，打造从材料制备到组件集成的完整产业链，致力于将柔性钙钛矿光伏技术推向商用市场。产品主要面向商业建筑屋顶、幕墙、基础设施、车辆及传统光伏板难以安装的各类场景，目标是在数年内实现产品上市，并在 2030 年前建成规模化生产基地。

柔性钙钛矿太阳能板具有轻量化、材料用量少、应用场景广等显著优势，可大幅拓展光伏发电的安装范围，为建筑、交通、基础设施等领域提供更灵活的绿色能源方案。此次合作整合了各方在材料研发、工艺放大、组件封装等环节的核心能力，能够加速技术从实验室到量产的全链条验证，有效降低产品开发风险，缩短商业化周期。同时，通过构建供应链和知识产权体系，合作各方将提升产品交付效率与成本竞争力，更好满足全球市场对高性能柔性光伏产品的快速增长需求。

TNO、Perovion 与 LiftPV 在柔性钙钛矿价值链上各擅其长。三方优势互补，将共同推动柔性钙钛矿光伏技术从研发走向规模化商业应用。

TNO 拥有超过十年的钙钛矿电池研发经验，并掌握先进的柔性薄膜放大生产技术，包括卷对卷工艺和空间原子层沉积（ALD）技术。目前，TNO 正在建设一条完整的卷对卷中试线，以推动该技术的大规模应用落地。

Perovion 是从 TNO 技术衍生出的独立公司，专攻前端钙钛矿电池的工业化——即在柔性薄膜上制备活性电池层。该公司正致力于开发可扩展的卷对卷生产工艺，并为未来的组件集成伙伴提供钙钛矿电池产品。

LiftPV 则负责将钙钛矿电池进一步加工为完整、可靠且通过认证的太阳能板。依托超过 25 年卷对卷柔性太阳能薄膜生产的深厚经验，LiftPV 在组件设计、封装与认证方面积累丰富专长。

SparkNano 2018 年脱胎于荷兰应用科学研究组织 TNO，总部坐落于荷兰埃因霍温高科技脑港区域，是空间原子层沉积（Spatial ALD）设备领域的首创与领先 OEM 厂商，核心团队扎根于拥有 50 年空间 ALD 技术积淀的埃因霍温理工大学，在薄膜沉积、系统设计与工程支持领域拥有深厚技术底蕴。SparkNano 依托自主专利的常压空间 ALD 核心技术，打造了兼具原子级镀膜精度、超高沉积效率与极致可扩展性的纳米涂层解决方案，沉积速度较传统 ALD 提升超 100 倍，且能实现前驱体高利用率、无反应器壁沉积与无掩膜图案化沉积，从根源上减少稀缺材料消耗与生产浪费。

1. LabLine™：精准完成工艺规模化验证的核心平台

作为业界领先的实验室级空间 ALD 系统，LabLine™ 专为工艺研发与规模化前期验证设计，兼顾原子级精度与灵活的中试放大能力，是打通 “实验室小试→大规模验证” 的关键桥梁：

• 高速沉积 + 大尺寸基底，高效完成规模化验证：采用空间 ALD 核心技术，通过空间分隔半反应消除传统 ALD 的抽空 - 冲洗步骤，沉积速度较常规 ALD 提升超 100 倍；支持 420 mm×325 mm 大尺寸基底，可适配平面、多孔等各类电极基材，能快速完成不同批次、不同规格的涂层验证，大幅缩短规模化验证周期。

• 全工艺参数可控，保障验证结果可复现：可支持4路前驱体通道，支持 N₂、O₂、H₂等离子体增强配置，沉积温度可在 50–200℃精准调控，与 SparkNano LiF ALD 工艺完美匹配；搭载高级控制软件，实现工艺参数的实时监测、精准调控与数据留存，确保小试、中试的验证结果一致，为后续工业化量产提供可直接移植的工艺参数。

• 前驱体高利用率，降低规模化验证成本：最大化前驱体利用率并支持未反应前驱体回收，大幅减少材料浪费，相比常规 ALD 设备，有效降低中试阶段的物料成本，让企业可低成本开展多轮、大规模的工艺验证与性能测试。

基于手套箱的等离子体增强空间原子层沉积系统（大气压式）

2. Omega™：全球首创高速卷对卷系统，实现验证成果的工业化量产

在 LabLine™ 完成规模化工艺验证后，SparkNano Omega™ 高速卷对卷空间 ALD 系统可直接承接验证成果，实现 LiF 涂层的工业化大规模生产，让技术验证与量产落地零断层：

• 工业级生产效率，匹配锂电量产需求：支持 0.3–1.5 m 可定制幅宽，卷材移动速度高达100 m/min，在大气压惰性气体环境下实现长时间连续高效运行，沉积效率较常规 ALD 提升超 100 倍，完全契合锂离子电池电极卷式制造的大规模生产节奏。

• 全柔性基材兼容，无需改造现有产线：完美适配 PET（20–200μm）、Cu/Al      箔（≤25μm）等锂电量产主流柔性箔材，可直接对接电池企业现有卷式产线架构，大幅降低设备改造成本，让经规模化验证的 LiF ALD 工艺快速落地。

• 稳定可靠的工业化设计，保障量产一致性：采用专利空间 ALD 沉积模块，支持自动反向与在线沉积，前驱体利用率高、维护停机时间短；可选等离子体增强沉积模式，沉积温度控制在 50–150℃，确保量产过程中 LiF 薄膜始终保持无杂、高保形、高稳定的特性，与规模化验证的工艺性能完全一致，彻底解决常规工艺量产中性能波动的问题。

R2R ALD 沉积系统