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用户成果|电场定向诱导 β-Ga₂O₃ 各向异性失效:从随机熔化到晶面控制破坏的原位 TEM 证据
产品: Lightning 原位热电杆
关键词:原位热电杆,STEM,STEM 原位实验,DENSsolutions
日期:2026-06-26

标题:

Electric field-directed anisotropic failure of β-Ga2O3

发表期刊:

Applied Physics Reviews

文章中使用产品型号:

DENSsolutions Lightning 原位热电杆

原文链接:

https://doi.org/10.1063/5.0312538

 

今天要解读的这篇 Applied Physics Reviews 文章,聚焦于超宽禁带半导体 β-Ga₂O₃ 在极端服役条件下的可靠性问题:当 β-Ga₂O₃ 同时承受高温、电场和电子束辐照作用时,它究竟是随机损伤,还是会沿特定晶面发生有方向的结构失效?

β-Ga₂O₃ 具有极高的临界击穿电场和优异的Baliga功率器件优值,因此被认为是下一代高压功率器件的重要候选材料。但是,它也有一个非常突出的短板:热导率低,而且热导率具有明显各向异性。这意味着在器件工作时,电应力和热应力会相互耦合,局部区域容易形成热积累、缺陷迁移和结构失稳,最终引发器件失效。

这篇文章的核心发现是:β-Ga₂O₃ 在电-热耦合场下并不是随机熔化,而是会沿着低指数晶面,尤其是(200)等晶面,发生电场定向的各向异性失效。

更重要的是,作者通过原位 TEM 直接观察到了这个过程,并通过解耦实验确认:电场不是简单提供能量,而是触发并引导这种各向异性失效的关键开关。

 

01

研究背景

β-Ga₂O₃:超高压功率器件的明星材料

β-Ga₂O₃ 是一种超宽禁带半导体,适合用于高压、大功率电子器件。相比 Si、SiC、GaN,它的理论击穿电场更高,因此在超高压器件中具有很大潜力。

但是 β-Ga₂O₃ 的问题也很明显:

它的热导率较低;

晶体结构是单斜结构,导致热学、电学和力学性质都具有明显方向性;

在实际器件中,电场、热场和局部缺陷往往同时存在。

文章指出,β-Ga₂O₃ 沿不同晶向的热导率差异可以达到约 2 倍,例如 [010] 方向热导率约 27 W/mK,而 [100] 方向约 10.9 W/mK。这个差异意味着在外加电场和热场下,不同晶面附近的散热能力不同,局部温度和失效路径也会不同。

换句话说,β-Ga₂O₃ 的失效不是简单的“温度太高烧坏了”,而是和晶体本身的各向异性紧密相关。

 

02

存在的挑战 / 问题

困境1:传统可靠性测试难以捕捉失效过程

传统功率器件可靠性研究通常依赖应力前后的电学参数对比,例如漏电流、导通电阻或阈值电压的变化。这类方法能够判断器件性能是否退化,但很难直接揭示材料内部的微观结构演变过程。因此,β-Ga₂O₃ 在电-热耦合条件下究竟如何产生缺陷、如何发生晶格失稳,以及失效为何会沿特定晶面扩展,仍缺乏直接的原位证据

困境2:多场耦合下的失效主因难以区分主因

β-Ga₂O₃ 在实际服役过程中通常同时承受电场和热场作用,并伴随缺陷生成、迁移以及局部焦耳热积累等过程。这些因素相互耦合,使得仅凭失效后的形貌或电学退化结果,很难判断材料破坏究竟主要由热效应、辐照效应、还是电场作用所触发。因此,本文需要通过原位 TEM 与解耦实验,进一步明确电场在各向异性失效中的主导作用。

 

03

本研究的创新解决之处

创新1:用原位 TEM 直接观察 β-Ga₂O₃ 的电-热耦合失效过程

作者将 FIB 制备的 β-Ga₂O₃ 薄片样品转移到带有加热和加电功能的 MEMS 芯片上,并使用 DENSsolutions D9+ 双倾样品杆,在 TEM 中进行原位加热和偏压实验。通过这种方式,作者不是在失效后再看材料,而是在失效发生时直接拍摄其演化过程。

创新2:首次直接观察到 β-Ga₂O₃ 沿低指数晶面发生各向异性失效

在 500 °C 和 1 V 条件下,β-Ga₂O₃ 没有发生随机熔化,而是沿着特定低指数晶面推进,这些晶面共同构成了类似五边形的熔蚀坑。

这说明 β-Ga₂O₃ 的失效路径受到晶体学严格约束,是一种晶面选择性失效,而不是简单的无序烧蚀。

创新3:通过解耦实验确认电场是关键驱动力

作者做了非常重要的对照实验:

只有电子束辐照时,材料边缘出现弥散熔化和球状聚集,界面是弯曲、无序的,没有明显晶面选择性;

电子束 + 加热时,材料开始出现部分晶面特征,尤其是(200)晶面附近出现的晶面化边界,但仍然不是严格的各向异性熔化;

电子束 + 加热 + 电场同时存在时,材料才出现严格沿低指数晶面推进的各向异性失效。

这说明:

热场可以增强原子迁移,电子束可以引入缺陷,但真正把失效“定向化”的,是电场。

创新4:建立电-热耦合失效的完整机制链

本文不仅观察到 β-Ga₂O₃ 的各向异性失效现象,还进一步解释了其背后的物理机制:电子束和电应力首先引入空位缺陷,高温促进缺陷迁移,而电场则进一步驱动缺陷向局部高场区域聚集。由于 β-Ga₂O₃ 本身具有明显热导率各向异性,尤其是与 (200) 面相关的方向散热能力较弱,局部热积累更容易发生,最终诱导材料沿特定低指数晶面快速失效。

 

04

证据链详解:

Figure 主图解读

Figure 1 :直接展示了 β-Ga₂O₃ 在 500 °C、1 V 条件下的失效过程。

 

材料并不是随机熔化,而是沿 (001)、(201)、(200)、(20−1) 等低指数晶面定向推进,最终形成具有晶体学边界的五边形熔蚀坑。同时,熔化区域下方出现非晶化,并伴随 β 相纳米晶析出,说明该过程包含“局部熔化—非晶化—再结晶”的动态结构重构。

 

Figure 2:揭示 (200) 晶面的两种熔化模式

Figure 2 进一步放大了 (200) 晶面的失效行为。早期阶段表现为逐层剥离式熔化,原子层沿一个方向有序脱离;随着能量持续积累,失效转变为多层同步熔化,多个原子层同时快速分解。这说明 (200) 面的失效不是无序崩塌,而是具有明确晶体学路径的有序分解过程。

 

Figure 3:解耦实验证明电场是关键因素

Figure 3 对比了电子束辐照、加热-辐照以及电-热-辐照耦合条件下的结构变化。单独电子束主要导致无序熔化;加入热场后,材料边缘开始出现晶面化趋势;只有进一步加入电场后,才出现严格沿低指数晶面推进的各向异性失效。因此,电场是触发并引导定向失效的关键因素。

 

Figure 4:电学与模拟结果解释失效起点

Figure 4 通过 I–V 测试和 Poole–Frenkel 模型拟合说明,电输运与缺陷辅助发射有关,表明电应力会促进空位缺陷参与导电和迁移。同时,电场模拟显示样品薄区存在局部高场集中,这些区域更容易成为失效起点。因此,缺陷、电场集中和热激活共同决定了失效的初始位置。

 

Figure 5:电-热老化会加速后续失效

Figure 5 展示了经过多次电-热应力冲击后的 β-Ga₂O₃ 再次失效过程。其失效路径仍然沿特定晶面展开,但熔化速率显著提高,说明电-热老化会造成不可逆的微结构退化,使材料在后续相同条件下更容易快速发生各向异性破坏。

 

06

本文构建的失效机制图景

综合主图,这篇文章建立了一个完整的 β-Ga₂O₃ 失效链条:

阶段1

缺陷生成

电子束辐照和电应力共同引入空位缺陷,尤其是 Ga 空位,同时氧空位也可能参与。

阶段2

缺陷迁移

高温提供热激活能,电场降低缺陷迁移势垒,使缺陷发生定向迁移。

阶段3

局部高场区成为失效起点

样品薄区出现电场增强,缺陷更容易在这些区域聚集,形成结构薄弱区。

阶段4

(200) 等晶面成为优先失效路径

由于 β-Ga₂O₃ 热导率各向异性明显,某些方向散热能力差,尤其与 (200) 面相关的方向容易形成局部热积累。因此 (200) 面熔化最快。

阶段5

熔坑几何形貌进一步增强电场

一旦局部坑形成,坑尖端和边缘会进一步集中电场和电流,增强焦耳热。

阶段6

正反馈导致快速晶面定向破坏

电场集中 → 焦耳热增强 → 缺陷迁移加速 → 晶格失稳 → 熔坑扩大 → 电场进一步集中。

最终形成沿低指数晶面推进的各向异性失效。

 

07

研究意义

1. β-Ga₂O₃ 失效不是随机热击穿,而是晶体学控制的定向破坏

传统上,宽禁带半导体失效常被理解为热失控或随机损伤。但这篇文章表明,在 β-Ga₂O₃ 中,失效路径受到晶面、热导率各向异性和电场分布共同控制。

这意味着未来做 β-Ga₂O₃ 器件设计时,不能只考虑平均热导率和平均击穿电场,而要考虑晶向、晶面和局部电场分布。

2. 电场不仅提供能量,更决定失效方向

这篇文章最重要的概念之一是:

电场是触发并引导各向异性失效的关键因素。

没有电场时,电子束和热场主要导致无序熔化或局部晶面化;
加入电场后,失效被定向到特定低指数晶面。

所以对于高压器件而言,局部电场设计至关重要。器件边缘、沟道、栅极附近、缺陷集中区域,都可能成为各向异性失效起点。

3. 电-热老化会造成不可逆微结构退化

Figure 5 显示,反复电-热应力会显著降低 β-Ga₂O₃ 的结构稳定性,使其后续失效率提升超过 4 倍。

这说明器件可靠性不能只看一次性击穿强度,还要看长期工作后的结构退化。

换句话说:

β-Ga₂O₃ 器件可能在电学参数还没完全失效前,内部晶体结构已经进入预损伤状态。

4. 对器件设计的启示

文章最后给出的设计启示可以概括为两个层面。

材料层面:
需要通过缺陷工程抑制有害点缺陷的生成和迁移,尤其要关注 Ga 空位、氧空位及其在电场下的迁移行为。

器件层面:
需要优化沟道方向、电场分布和热管理,让高电场区域避开容易热积累和结构失稳的晶向/晶面组合。

这对 β-Ga₂O₃ SBD、MOSFET、高压二极管等器件都很重要。

 

了解更多 DENSsolutions TEM 原位解决方案与应用案例,欢迎咨询热线:400 857 8882。

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