分辨率最高的台式电镜
电镜能谱一体化设计
不受震动、磁场等环境因素干扰
Cu、Zn 异物及铁磁性异物检测
全自动分析 7x24h
符合 ISO16232,VDA19 标准
全自动检测 SiO2,Al2O3 等硬质颗粒
一体化钢中非金属夹杂物分析
SEMPREP SMART 配备了高能量和可选的低能量氩离子枪。这款设备是用于扫描电子显微镜(SEM)和电子背散射衍射(EBSD)样品的最终加工和清洁的理想选择。
革命性的原子力显微镜(AFM),可实现与扫描电子显微镜(SEM)的无缝集成,为原位关联显微镜开辟新可能。
凭借优化设计,LiteScope AFM 兼容赛默飞世尔、TESCAN、蔡司、日立、JEOL 等主流品牌 SEM 系统及其配件,其他品牌电镜亦可定制适配。
使用全自动桌面式原子力显微镜 Redux AFM ,即可在桌面轻松采集亚纳米级精度的图像。Redux 配备电动 XY 平台和光学显微镜,具有无与伦比的快速成像、易用性和便捷的操作体验。
nGauge AFM 是一款便携式原子力显微镜,能够以亚纳米级的精度分辨结构特征。nGauge 内置传感器,可实现无与伦比的快速检测、便捷的操作和无故障运行。
样品仓尺寸:320mm*540mm
像素分辨率:2.5μm
40nm 超高分辨,全球首款
台式设计,便于安装使用
可选配集成XRF系统
先进X射线源和双探测器配置
高自动化,设备易用,维护简单
台式显微CT最高分辨率成像
寿命长免维护
使用成本低
适配各种安装环境
一体化软件
极具性价比的选择,兼具高性能与可靠性,高分辨与大仓室的完美统一
满足通用需求
小体积 大能耐
重量轻 能车载
它什么也不挑,只需通电就能工作
它除了工作,什么都不需要
符合 ISO 14644-9 标准
检测范围:可检测低至 0.5 um 颗粒
稳定:90% 采集效率 | >90% 重复性
快速:10 秒完成检测
数据输出及可视化:符合 ISO 14644-17 标准
高通量检测:可检测低至 0.5 um 颗粒
快速:10 秒完成 2 英寸面积检测
定量:适用于生产与研发环境的验证与监测
高通量检测:每小时可检测 400 片晶圆
最小检测颗粒:200 nm
尺寸:支持 4/6/8/12 英寸晶圆
位置精度:重复定位精度 15 um
检测:同时检测正反两面,无需翻面
每小时可检测 400 片晶圆(WPH)
数据输出:根据 ISO 14644-9 标准
正反两面检测:单次测量中完成正反两面检测(无需翻转)
检测范围:能够检测 ≥ 0.2µm 聚苯乙烯乳胶(PSL)等效颗粒(经 NIST 认证)
行业标准:符合 VDA19 / ISO16232
快速简便:2.5 分钟内完成过滤分析并生成报告
绝对可靠:10 年内零维修案例
“零”维护:自行校准,自动生成审计报告
Wildfire TEM 原位加热样品杆可以在透射电镜下将样品加热至 1300℃,并实现全方位的、高度精确的温度控制和前所未有的样品稳定性。
Lightning 原位热电样品杆对样品温度和电压都有极好地控制能力,可在 900℃ 环境下实现高于 300 kV/cm 的电场环境设置。
Climate TEM 原位气相加热样品杆可通入多种气体环境,并可在几秒钟内切换气体。搭载气体供应系统、气体分析仪和蒸汽发生器,可进行多样化的原位气相加热实验。
Stream 原位液相加热/加电样品杆是集成的液体供应系统,能够消除气泡,控制液体流速和厚度,简化了系统的操作步骤,提高了实验成功效率。
Technoorg Linda UniMill 离子减薄仪专为快速地制备具备高减薄率的、高质量的 TEM/XTEM 样品而设计。
UniMill 既可以使用全球独家的超高能离子枪进行快速研磨,也可使用专用的低能离子枪进行最终抛光和精修处理。
Technoorg Gentle Mill 离子精修仪产品专为最终抛光、精修和改善 FIB 处理后的样品而设计。
Gentle Mill 型号非常适合要求样品无加工痕迹、表面几乎没有任何损坏的 XTEM、HRTEM 或 STEM 的用户。
Technoorg Linda 的低能氩离子枪(GIB)适用于表面减薄、其他表面处理后的后处理、清洁以及去除无定形和氧化物表面层。
Forge Nano Prometheus XL 系统单次处理量达 2-20L(依粉末密度可达 10kg 以上),全球首创大容量流化床反应器,结合振动与高剪切射流技术,彻底解决粉末团聚难题,实现超均匀包覆。
Prometheus 粉末原子层沉积(ALD)设备非常适合对粉末进行精密、保形的纳米包覆,一次性可包覆 0.1g-1kg 的粉末量。
Pandora 是实验科研级的原子层沉积(ALD)设备,可实现平面样品和粉末样品的纳米涂层包覆。
Forge Nano 可提供百吨至千吨级的粉末原子层沉积设备,温度范围最高可达 400℃,同时可提供定制化的粉末包覆方案。
提供业界领先的空间原子层沉积 (空间 ALD) 系统,兼具卓越的薄膜质量、最快的沉积速度和无与伦比的灵活性。
可实现柔性薄膜卷材的工业化生产,产品范围涵盖锂离子电池到钙钛矿太阳能电池等
首台台式直接原子层打印设备,专为快速原型设计和新设备结构的开发而设计
实现从稀疏团簇到厚达几微米的连续层的纳米打印
打印不同的图案
自动化数据监测及记录
无墨水气溶胶直写沉积
生成稳定且干净的纳米级气溶胶颗粒
提供多个气路接口与其它配件互联
提供多样化的材料合成可能性
VSP-A1 扩散配件: 避免颗粒团聚粒,均匀扩散后沉积到基材
VSP-A2 过滤配件:基于过滤基材的设置,获得所需的颗粒沉积
VSP-A3 冲压配件:通过气压加速颗粒前进速度,形成纳米颗粒薄膜
采用狭缝针孔的高速线重扫共聚焦系统,拥有超大视场,适用于高速、深层的 3D 成像,并显著降低光毒性和光漂白
适用于高速、深层的 3D 成像,并显著降低光毒性和光漂白
基于专利的重扫描技术,仅需几纳瓦功率即可实现深度组织超分辨率成像的共聚焦系统
温度范围-273℃~600℃
气体、液体、真空环境使用
温度范围-53℃~230℃
可做防静电或防火处理
用于冷却水或压缩空气
工作压力最高 24bar
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